為磁濺射鍍膜機真空腔噴涂KNM1000納米陶瓷涂層

磁濺射鍍膜機是一種普適鍍膜機，用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系�？慑兏鞣N硬質膜、金屬膜、合金、化合物、半導體、陶瓷膜、介質復合膜和其他化學反應膜，亦可鍍鐵磁材料。主要用于實驗室制備有機光電器件的金屬電極及介電層，以及制備用于生長納米材料的催化劑薄膜層。 磁控濺射鍍膜其組成包括真空腔、機械泵、真空測試系統、油擴散泵、抽真空系統、冷凝泵以及成膜控制系統等等。

磁控濺射真空鍍膜機的主體是真空腔，腔體一般是用不銹鋼材料制作的，要求結實耐用不生銹等，而且更要防止金屬對鍍膜的污染作用。這就需要為不銹鋼腔體制備一個屏蔽涂層，將不銹鋼基體與鍍膜隔絕開來，以保證鍍膜的質量。根據基體的材質和腔體的需求，可以通過噴涂KNM1000納米陶瓷涂層的辦法來解決這個問題。KNM1000納米陶瓷涂層具有耐酸堿性、不粘性、耐高溫性、高硬度、防水性能、高耐磨性、附著力強等優點，能夠在不銹鋼基材的表面形成屏蔽層，屏蔽金屬基體對鍍膜的污染作用，且容易清潔，從而保證鍍膜的質量。